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제품 사용 목적
반도체 공정에서 사용되는 부식성·유독성 gas에서 발생되는 impurities를 정성·정량 분석하기 위해 사용
- 측정 가능 gas : H2, O2, N2, Ar, He 등을 제외한 모든 gas 검출 및 측정 가능


제품소개


⊙ 실시간 gas 모니터링 시스템

- FTIR 분광법
- 정량 분석
- 부식성 가스 분석 가능
- 고객 요구에 맞게 시스템 구성.


⊙ System components


⊙ Gas Analysis Module


⊙ IRGAS System Block Diagram


⊙ IRGAS 원리(Background)




⊙ Battery Crush Discharge Gases


⊙ FTIR spectra for HDPCVD process Post Abatement System


⊙ FTIR Spectra for Clean Process
FTIR Spectra during clean for HDPCVD process post pump


⊙ FTIR Spectra for Deposition Process
FTIR Spectra during deposition for HDPCVD process post pump


⊙ 각종 Application에 적합한 다양한 gas cell


제품특징
1. Fast Response and High Sensitivity (Low ppb)
2. FTIR과 결합하여 Response Time을 줄임 ( from minutes to seconds)
3. Sepctrometer drift 효과 감소
4. 다양한 application에 적용 가능한 다양한 model 및 gas cell & 사용 용이한 software
5. 최적의 분석을 위한 gas flow가 유지되도록 설계된 gas cell
6. Multi-Gas Application / Corrosive and Toxic Gas Application


⊙ IRGAS Applications
- Applied Materials : Epitaxial reactors
- Applied Materials : PFC emissions
- Sandia National Labs : Toxic gases
- U.S : Chemical weapon agents
- Electronic Specialty Gas Purity